Subwellenlängenstrukturierte Materialien zur Polarisationsmanipulation

Subwellenlängenstrukturierte Materialien zur Polarisationsmanipulation

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Akronym: SWG

Abstract

Durch die gezielte Oberflächenstrukturierung im sub-Wellenlängenbereich von optisch isotropen Materialien (z.B. Si3N4), können diese doppelbrechende Eigenschaften aufweisen. Somit lassen sich optische Elemente, die die Polarisationsrichtung und die Phase einer Lichtwelle gezielt manipulieren können, herstellen. Als besondere Anwendungen können die Lambda-Viertel- und Lambda-Halbe-Platten als auch Radialpolarisatoren erwähnt werden.

Die Herstellung solcher Polarisationselemente beinhaltet unterschiedlichste Verfahren, wie PECVD, EBeam-Lithographie oder RIE. Die Charakterisierung der hergestellten Elemente erfolgt einerseits über die Vermessung der Strukturgeometrie und andererseits mit Aufbauten zur Messung der Phasenverschiebung und Polarisationsausrichtung des Lichtes.


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